La Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM) ha participado en la II Conferencia Internacional sobre Observancia de la Propiedad Intelectual, contra las falsificaciones y la piratería.
La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) y la Administración Estatal para la Regulación del Mercado de China (SAMR) han organizado este foro en el que han participado 16 países, diversas autoridades policiales, judiciales y aduaneras y varias organizaciones internacionales como Interpol, Europol y la Oficina Europea Antifraude.
Celebrado en la ciudad china de Changsha, el objetivo era que los participantes compartieran las buenas prácticas y las experiencias en su lucha contra la piratería y las falsificaciones. Los asistentes tuvieron ocasión de debatir sobre los retos comunes que plantean estos delitos y plantear iniciativas encaminadas a reforzar la cooperación internacional en esta materia. Dado que se trata de una amenaza global, la colaboración y la confianza entre los distintos países y actores implicados se antoja crucial para hacerle frente exitosamente.
La OEPM aprovechó la ocasión para exponer la importancia de la concienciación y la sensibilización ciudadana a través de campañas como las que este organismo realiza anualmente en nuestro país.
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